发明名称 彩色滤光基板的制作方法
摘要 本发明提供一种彩色滤光基板的制作方法。本发明的彩色滤光基板的制作方法,在向子像素区域滴加量子点胶之前,利用正型光阻在黑色矩阵上形成光阻挡墙,以在滴加量子点胶时起到挡墙功能,并在实现挡墙功能之后将光阻挡墙去除,避免了现有彩色滤光基板的制作方法中由于挡墙高度过低造成量子点胶自由流动而导致的混色问题,以及由于挡墙高度过高造成液晶排布紊乱而导致的漏光问题,工艺简单,所制得的彩色滤光基板的平坦度较好。
申请公布号 CN105259696A 申请公布日期 2016.01.20
申请号 CN201510790976.8 申请日期 2015.11.16
申请人 深圳市华星光电技术有限公司 发明人 唐敏
分类号 G02F1/1335(2006.01)I 主分类号 G02F1/1335(2006.01)I
代理机构 深圳市德力知识产权代理事务所 44265 代理人 林才桂
主权项 一种彩色滤光基板的制作方法,其特征在于,包括如下步骤:步骤1、提供基板(1),在所述基板(1)上形成黑色矩阵(2),所述黑色矩阵(2)在所述基板(1)上围出数个子像素区域(10);步骤2、在所述黑色矩阵(2)及基板(1)上涂布正型光阻,并对所述正型光阻进行光刻制程,形成位于所述黑色矩阵(2)上的光阻挡墙(3);步骤3、提供量子点胶(40),将所述量子点胶(40)分别滴入所述数个子像素区域(10);步骤4、对所述数个子像素区域(10)内的量子点胶(40)进行初步固化;步骤5、对所述光阻挡墙(3)进行紫外光照射及显影制程,将所述光阻挡墙(3)去除,并将所述数个子像素区域(10)内的量子点胶(40)固化,形成量子点层(400);步骤6、在所述基板(1)、黑色矩阵(2)、及量子点层(400)表面涂布平坦层(5),从而完成彩色滤光基板的制作。
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