发明名称 |
一种微晶铝化物涂层制备方法 |
摘要 |
一种微晶铝化物涂层制备方法,其特征在于:制备过程在真空中进行;采用真空阴极电弧蒸发方法产生高密度等离子体;在工件上施加高频脉冲负偏压,使等离子体中金属离子注入到工件表层内部,并形成亚微米级晶粒的铝化物涂层。本发明的优点:涂层晶粒度达到亚微米级,抗高温腐蚀性能优于简单铝化物涂层;制备过程中不需要加热工件,对基体组织和力学性能影响小,并可减少能源消耗;涂层结构致密,结合力优于电子束物理气相沉积、磁控溅射和电弧离子镀的NiAl涂层;工艺性能和工业放大性优于电子束物理气相沉积、磁控溅射和电弧离子镀NiAl涂层。涂层质量稳定性好,生长速率高;工作环境好,不会产生环境污染问题。 |
申请公布号 |
CN105256272A |
申请公布日期 |
2016.01.20 |
申请号 |
CN201410339307.4 |
申请日期 |
2014.07.16 |
申请人 |
中国科学院金属研究所 |
发明人 |
沈明礼;朱圣龙;王福会 |
分类号 |
C23C14/06(2006.01)I;C23C14/48(2006.01)I |
主分类号 |
C23C14/06(2006.01)I |
代理机构 |
沈阳晨创科技专利代理有限责任公司 21001 |
代理人 |
任玉龙 |
主权项 |
一种微晶铝化物涂层制备方法,其特征在于:制备过程在真空中进行;采用真空阴极电弧蒸发方法产生高密度等离子体;在工件上施加高频脉冲负偏压,使等离子体中金属离子注入到工件表层内部,并形成亚微米级晶粒的铝化物涂层。 |
地址 |
110015 辽宁省沈阳市沈河区文化路72号 |