发明名称 一种微晶铝化物涂层制备方法
摘要 一种微晶铝化物涂层制备方法,其特征在于:制备过程在真空中进行;采用真空阴极电弧蒸发方法产生高密度等离子体;在工件上施加高频脉冲负偏压,使等离子体中金属离子注入到工件表层内部,并形成亚微米级晶粒的铝化物涂层。本发明的优点:涂层晶粒度达到亚微米级,抗高温腐蚀性能优于简单铝化物涂层;制备过程中不需要加热工件,对基体组织和力学性能影响小,并可减少能源消耗;涂层结构致密,结合力优于电子束物理气相沉积、磁控溅射和电弧离子镀的NiAl涂层;工艺性能和工业放大性优于电子束物理气相沉积、磁控溅射和电弧离子镀NiAl涂层。涂层质量稳定性好,生长速率高;工作环境好,不会产生环境污染问题。
申请公布号 CN105256272A 申请公布日期 2016.01.20
申请号 CN201410339307.4 申请日期 2014.07.16
申请人 中国科学院金属研究所 发明人 沈明礼;朱圣龙;王福会
分类号 C23C14/06(2006.01)I;C23C14/48(2006.01)I 主分类号 C23C14/06(2006.01)I
代理机构 沈阳晨创科技专利代理有限责任公司 21001 代理人 任玉龙
主权项 一种微晶铝化物涂层制备方法,其特征在于:制备过程在真空中进行;采用真空阴极电弧蒸发方法产生高密度等离子体;在工件上施加高频脉冲负偏压,使等离子体中金属离子注入到工件表层内部,并形成亚微米级晶粒的铝化物涂层。
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