发明名称 相位差膜的制造方法及圆偏振板的制造方法
摘要 本发明提供一种能够以高的制造效率制造双轴性受到抑制、Nz系数小、在斜向上具有慢轴的相位差膜的方法。本发明的相位差膜的制造方法包括如下工序:通过纵向的夹具间距会发生变化的可变间距型的左右的夹具分别把持拉伸对象的膜的左右侧缘部;将该膜预热;在将该左右的夹具中的一侧夹具的夹具间距开始减小的位置、与另一侧夹具的夹具间距开始减小的位置设为纵向上的不同位置的状态下,使各夹具的夹具间距减小至规定间距,将该膜斜向拉伸;及将把持该膜的夹具解除。
申请公布号 CN105264410A 申请公布日期 2016.01.20
申请号 CN201480032264.3 申请日期 2014.03.12
申请人 日东电工株式会社 发明人 清水享;平田聪;近藤诚司;村上奈穗
分类号 G02B5/30(2006.01)I;B29C55/04(2006.01)I;G02F1/1335(2006.01)I;G02F1/13363(2006.01)I;B29L7/00(2006.01)I;B29L11/00(2006.01)I 主分类号 G02B5/30(2006.01)I
代理机构 中科专利商标代理有限责任公司 11021 代理人 葛凡
主权项 一种相位差膜的制造方法,其包括如下工序:通过纵向的夹具间距会发生变化的可变间距型的左右的夹具分别把持拉伸对象的膜的左右侧缘部;将该膜预热;在将该左右的夹具中的一侧夹具的夹具间距开始减小的位置、与另一侧夹具的夹具间距开始减小的位置设为纵向上的不同位置的状态下,使各夹具的夹具间距减小至规定间距,将该膜斜向拉伸;及将把持该膜的夹具解除。
地址 日本大阪府