| 发明名称 | 显示设备及其制造方法 | ||
| 摘要 | 本发明公开了显示设备及其制造方法。该显示设备包括：基板；第一导电膜图案，包括位于所述基板上的栅电极和第一电容器电极；栅绝缘层图案，位于所述第一导电膜图案上；多晶硅膜图案，包括位于所述栅绝缘层图案上的有源层和第二电容器电极；层间绝缘层，位于所述多晶硅膜图案上；多个第一接触孔，通过所述栅绝缘层图案和所述层间绝缘层，以暴露所述第一导电膜图案的一部分；多个第二接触孔，通过所述层间绝缘层，以暴露所述多晶硅膜图案的一部分；以及第二导电膜图案，包括位于所述层间绝缘层上的源电极、漏电极和像素电极。 | ||
| 申请公布号 | CN102280466B | 申请公布日期 | 2016.01.20 |
| 申请号 | CN201110103411.X | 申请日期 | 2011.04.18 |
| 申请人 | 三星显示有限公司 | 发明人 | 申旼澈;许宗茂;金奉柱;李仑揆 |
| 分类号 | H01L27/32(2006.01)I;H01L27/12(2006.01)I;H01L21/77(2006.01)I | 主分类号 | H01L27/32(2006.01)I |
| 代理机构 | 北京德琦知识产权代理有限公司 11018 | 代理人 | 罗正云;宋志强 |
| 主权项 | 一种显示设备，包括：基板；第一导电膜图案，包括位于所述基板上的栅电极和第一电容器电极；栅绝缘层图案，位于所述第一导电膜图案上；多晶硅膜图案，包括位于所述栅绝缘层图案上的有源层和第二电容器电极；层间绝缘层，位于所述多晶硅膜图案上；多个第一接触孔，通过所述栅绝缘层图案和所述层间绝缘层，以暴露所述第一导电膜图案的一部分；多个第二接触孔，通过所述层间绝缘层，以暴露所述多晶硅膜图案的一部分；以及第二导电膜图案，包括位于所述层间绝缘层上的源电极、漏电极和像素电极，其中除了所述多个第一接触孔之外，所述栅绝缘层图案具有与所述第一导电膜图案相同的图案，其中所述多个第一接触孔之一暴露所述第一电容器电极。 | ||
| 地址 | 韩国京畿道 | ||