| 发明名称 | 用于加热基板的加热装置和方法 | ||
| 摘要 | 本发明涉及一种用于处理基板（2）的真空处理系统，其具有用于承载将在基板平面（4）中处理的所述基板（2）的壳体（1），所述壳体（1）包括第一反射装置（6）和加热装置（5），所述加热装置（5）具有第一平面（10）和相对的第二平面（11），所述加热装置（5）被构造为仅通过第一平面（10）和/或第二平面（11）辐射热能，所述第一反射装置（6）被构造为将由加热装置（5）辐射的热能反射到所述基板平面（4）上，并且所述加热装置（5）被设置成：使得所述第一平面（10）面对所述第一反射装置（6），并使得所述第二平面（11）面对所述基板平面（4）。 | ||
| 申请公布号 | CN103222041B | 申请公布日期 | 2016.01.20 |
| 申请号 | CN201180036622.4 | 申请日期 | 2011.07.27 |
| 申请人 | 东电电子太阳能股份公司 | 发明人 | 埃德温·平克;菲利普·霍茨 |
| 分类号 | H01L21/67(2006.01)I | 主分类号 | H01L21/67(2006.01)I |
| 代理机构 | 北京科龙寰宇知识产权代理有限责任公司 11139 | 代理人 | 孙皓晨;姚卫华 |
| 主权项 | 一种用于处理基板(2)的真空处理系统，其具有用于承载将在基板平面(4)中处理的基板(2)的壳体(1)，所述壳体(1)包括第一反射装置(6)和加热装置(5)，所述加热装置(5)具有第一平面(10)和相对的第二平面(11)，所述加热装置(5)被构造为仅通过所述第一平面(10)和/或所述第二平面(11)来辐射热能，所述第一反射装置(6)被构造为将由所述加热装置(5)辐射的热能反射到所述基板平面(4)上，并且所述加热装置(5)被设置并构造成使得所述第一平面(10)面对所述第一反射装置(6)，由从所述反射装置发生的反射来辐射所述基板；所述加热装置(5)还被设置并构造成使得所述第二平面(11)面对所述基板平面(4)，由所述加热装置直接辐射所述基板；所述加热装置(5)包括多个矩形加热元件(14)，其中每一个所述加热元件(14)具有长度(c)、宽度(a)和厚度(b)，所述加热元件(14)串联和/或并联地电连接，并且在平行于分别形成了所述加热装置(5)的第一平面(10)和第二平面(11)的所述基板平面(4)的平面中沿着所述加热元件(14)的宽度(a)和长度(c)设置所述加热元件(14)。 | ||
| 地址 | 瑞士特吕巴赫 | ||