发明名称 具有不连续的半导体部分的微电子装置及制作这种装置的方法
摘要 本发明涉及一种微电子装置(100),包括:多个相似的不连续的半导体部分(104),所述半导体部分彼此电隔离并且形成半导体层(102),所述半导体部分以恒定的距离隔开并且包括与其他部分平行的形状;以及两个电极(108a、108b、108c、108d),所述电极设置成与半导体层接触,使得分隔两个电极的最大距离小于一个半导体部分的最大尺寸,其中,设置半导体部分的形状和尺寸、半导体部分之间的间距、电极的形状和尺寸以及电极相对于半导体部分的布局,使得至少一个半导体部分将两个电极彼此电连接,并且其中,半导体部分的最大尺寸垂直于电极的最大尺寸,所述电极是相似的。
申请公布号 CN102884647B 申请公布日期 2016.01.20
申请号 CN201180022483.X 申请日期 2011.05.03
申请人 法国原子能及替代能源委员会 发明人 罗曼·格沃齐茨基;罗曼·科普帕尔德
分类号 H01L51/05(2006.01)I;H01L27/28(2006.01)I 主分类号 H01L51/05(2006.01)I
代理机构 北京康信知识产权代理有限责任公司 11240 代理人 李静;张云肖
主权项 一种微电子装置(100),包括:多个不连续的半导体部分(104),具有相似的尺寸L<sub>SC</sub>、W<sub>SC</sub>以及相似的形状,所述半导体部分彼此电隔离并且形成半导体层(102),每个半导体部分(104)与相邻的半导体部分(104)的间距为恒定的距离E<sub>SCH</sub>、E<sub>SCV</sub>并且具有细长形状,每个半导体部分的最大尺寸L<sub>SC</sub>与其他半导体部分(104)的最大尺寸L<sub>SC</sub>平行,至少两个电极(108a、108b、108c、108d),所述电极设置成与半导体层(102)接触,使得分隔所述两个电极(108a、108b、108c、108d)的最大距离L<sub>通道</sub>小于其中一个所述半导体部分(104)的最大尺寸L<sub>SC</sub>,其中,设置所述半导体部分(104)的形状和尺寸L<sub>SC</sub>、W<sub>SC</sub>,所述半导体部分(104)之间的间距E<sub>SCH</sub>、E<sub>SCV</sub>,所述电极(108a、108b、108c、108d)的形状和尺寸L<sub>SD</sub>、W<sub>SD</sub>以及所述电极(108a、108b、108c、108d)相对于所述半导体部分(104)的布局,使得至少一个所述半导体部分(104)将所述两个电极(108a、108b、108c、108d)彼此电连接,所述半导体部分(104)的最大尺寸L<sub>SC</sub>垂直于所述电极(108a、108b、108c、108d)的最大尺寸W<sub>SD</sub>,所述电极(108a、108b、108c、108d)具有相似的形状和尺寸W<sub>SD</sub>、L<sub>SD</sub>,所述半导体部分(104)布置在与所述半导体层(102)的主面平行的平面内,所述电极(108a、108b、108c、108d)设置成与所述半导体层接触,形成具有平行行的规则图案,一行上的所述半导体部分(104)之间的间距E<sub>SCH</sub>相对于相邻行的所述半导体部分(104)之间的间距并沿着与各行平行的方向偏移距离D,该距离等于所述半导体部分(104)的最大尺寸L<sub>SC</sub>除以n,其中,n为10至20之间的实数,并且其中,所述半导体部分(104)的最大尺寸L<sub>SC</sub>等于分隔所述两个电极(108a、108b、108c、108d)的最大距离L<sub>通道</sub>的n倍,和/或所述电极(108a、108b、108c、108d)的最大尺寸W<sub>SD</sub>大于所述半导体部分(104)的最小尺寸W<sub>SC</sub>的n倍。
地址 法国巴黎