发明名称 光波导路的制造方法
摘要 本发明提供一种光波导路的制造方法,其能够在使用成型模具形成上包层的情况下利用CCD摄像机等识别装置容易地识别定位该成型模具时所使用的对准标记。在形成于基板(10)上的下包层(1)的上表面上,利用光刻法突出形成芯(2)和对准标记,使用将该对准标记作为记号进行定位的成型模具形成上包层,其中,在形成上述对准标记时,作为光掩模(20),使用对准标记形成用的开口图案(23)由开口部(23a)和该开口部(23a)周围的、开口率被设定在大于10%且小于80%的范围内的透光量减少区域(23b)构成的光掩模,对准标记的周侧面形成为倾斜面。
申请公布号 CN102565941B 申请公布日期 2016.01.20
申请号 CN201110411253.4 申请日期 2011.12.12
申请人 日东电工株式会社 发明人 柴田直树;内藤龙介;水谷道
分类号 G02B6/138(2006.01)I 主分类号 G02B6/138(2006.01)I
代理机构 北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙) 11277 代理人 刘新宇;张会华
主权项 一种光波导路的制造方法,其包括利用光刻法在下包层的上表面上突出形成芯和对准标记、且将该对准标记作为记号来定位上包层形成用的成型模具而形成上包层的工序,其特征在于,上述芯和对准标记是利用上述光刻法对涂覆了作为芯和对准标记的形成材料的感光性树脂组成物而形成的感光性树脂层进行光刻而形成的,上述光刻法中使用了形成有与芯和对准标记的图案相对应的开口图案的光掩模,作为用于上述光刻法的光掩模,使用对准标记形成用的开口图案由开口部和该开口部周围的、开口率被设定在大于10%且小于80%的范围内的透光量减少区域构成的光掩模,该光掩模的透光量减少区域是多个微小开口部隔开规定间隔而形成的区域,使上述感光性树脂层的与由上述开口部和上述透光量减少区域构成的上述对准标记形成用的开口图案相对应的部分突出形成为对准标记,以透过上述开口部的照射线为起因,对准标记的顶面形成为水平,以透过上述透光量减少区域的照射线的减少为起因,对准标记的周侧面形成为随着朝向外侧去而高度逐渐变低的倾斜面,从而提高识别装置对于对准标记的识别性。
地址 日本大阪府