发明名称 |
带多层膜的单晶衬底、带多层膜的单晶衬底的制造方法以及元件制造方法 |
摘要 |
本发明提供的带多层膜的单晶衬底、带多层膜的单晶衬底的制造方法以及使用该制造方法的元件制造方法,对因多层膜的成膜而产生的翘曲进行矫正;该带多层膜的单晶衬底,包括单晶衬底(20)和形成于单晶衬底(20)一面上的具有两个以上的层且具有压缩应力的多层膜(30),并且,在单晶衬底(20)的厚度方向上将单晶衬底(20)进行二等分而得到的两个区域(20U、20D)中,至少在单晶衬底(20)的与形成有多层膜(30)的面侧为相反侧的面侧的区域(20D)内设有热改性层(22)。 |
申请公布号 |
CN102770940B |
申请公布日期 |
2016.01.20 |
申请号 |
CN201180009701.6 |
申请日期 |
2011.03.04 |
申请人 |
并木精密宝石株式会社;株式会社迪思科 |
发明人 |
会田英雄;青田奈津子;星野仁志;古田健次;浜元友三郎;本庄庆司 |
分类号 |
H01L21/20(2006.01)I;C30B29/20(2006.01)I;C30B33/02(2006.01)I;H01L21/268(2006.01)I |
主分类号 |
H01L21/20(2006.01)I |
代理机构 |
上海音科专利商标代理有限公司 31267 |
代理人 |
张立岩 |
主权项 |
一种带多层膜的单晶衬底,其特征在于,包括单晶衬底和形成于该单晶衬底一面上的具有两个以上的层的多层膜,并且,在所述单晶衬底的厚度方向上将所述单晶衬底进行二等分而得到的两个区域中,至少在所述单晶衬底的与形成有所述多层膜的面侧为相反侧的面侧的区域内设有热改性层,其中,该热改性层是通过激光照射而形成;在对于所述单晶衬底的厚度方向的相对位置,将设有所述多层膜侧的面假设为0%、与设有所述多层膜的面为相反侧的面假设为100%时,所述热改性层设置在所述单晶衬底的厚度方向的大于50%且小于等于95%的范围内。 |
地址 |
日本国东京都足立区新田3丁目8番22号 |