发明名称 单片式化学研磨装置
摘要 本发明提供一种可以不使用夹具地对玻璃基板实施化学研磨处理的单片式的化学研磨装置。化学研磨装置(10)至少具备搬送部及研磨处理部。搬送部具备以在支承玻璃基板(100)的底面的同时将其沿水平方向搬送的方式构成的多个搬送辊(50)。研磨处理部具备第一~第四处理室(16、18、20、22)、第一~第三中转部(28、30、32)。第一~第四处理室(16、18、20、22)分别以向玻璃基板喷射相同组成的化学研磨液的方式构成。第一~第三中转部(28、30、32)以将各处理室连结起来的方式构成。第一~第四处理室(16、18、20、22)分别具有可以沿与玻璃基板(100)的搬送方向正交的方向摆动的喷射喷嘴。
申请公布号 CN103889912B 申请公布日期 2016.01.20
申请号 CN201280050075.X 申请日期 2012.10.09
申请人 株式会社NSC 发明人 西山荣
分类号 C03C15/00(2006.01)I;G02F1/13(2006.01)I;G02F1/1333(2006.01)I 主分类号 C03C15/00(2006.01)I
代理机构 北京汇思诚业知识产权代理有限公司 11444 代理人 龚敏;王刚
主权项 一种化学研磨装置,是以对被连续地搬送的多片玻璃基板进行化学研磨处理的方式构成的化学研磨装置,其特征在于,至少具备:搬送部,其具备以在支承玻璃基板的底面的同时将其沿水平方向搬送的方式构成的多个搬送辊;研磨处理部,其以向利用所述搬送部搬送的玻璃基板喷射化学研磨液而将玻璃基板薄型化的方式构成,所述研磨处理部具有:多个处理室,它们以分别向玻璃基板喷射相同组成的化学研磨液的方式构成;多个连结部,它们以将各处理室连结的方式构成,所述多个处理室分别具有可沿与玻璃基板的搬送方向正交的方向摆动的喷射喷嘴,所述多个连结部具有向玻璃基板喷射与所述处理室相同组成的化学研磨液的研磨液喷射机构。
地址 日本大阪府丰中市利仓1丁目1番1号