发明名称 使用了微透镜阵列的曝光装置及光学构件
摘要 本发明提供一种能够防止异物进入到微透镜阵列与基板之间并且能够防止由于基板的异常接近和上述异物导致对微透镜造成伤痕的曝光装置和光学构件。在透明基板(1)的上方配置有形成了多个微透镜(3a)的微透镜阵列(3),该微透镜阵列(3)在其端面(6)与掩模(4)接合。在掩模(4),在微透镜阵列(3)的两侧接合有对准标记台(12),在该对准标记台(12)的与基板(1)的相向面形成有对准标记(11)。对准标记台(12)与基板(1)之间的间隔小于微透镜阵列(3)与基板(1)的间隔。
申请公布号 CN103081060B 申请公布日期 2016.01.20
申请号 CN201180042029.0 申请日期 2011.07.26
申请人 株式会社V技术 发明人 水村通伸;新井敏成
分类号 H01L21/027(2006.01)I;G02B3/00(2006.01)I;G03F9/00(2006.01)I 主分类号 H01L21/027(2006.01)I
代理机构 中国专利代理(香港)有限公司 72001 代理人 毛立群;刘春元
主权项 一种使用了微透镜阵列的曝光装置,其特征在于,具有:基板台,支承曝光对象的透明基板;微透镜阵列,配置在该基板台的上方,形成有多个微透镜;遮光掩模,配置在该微透镜阵列的上方,并被固定于所述微透镜阵列;曝光光源;光学系统,将从该曝光光源射出的曝光光线引导至所述遮光掩模,利用所述微透镜阵列将透射了所述遮光掩模的曝光光线成像于所述基板台上的透明基板;对准标记台,配置在所述掩模的与所述透明基板的相向面;对准标记,形成在该对准标记台的与所述透明基板的相向面;以及标记感测单元,配置在所述透明基板的下方,将透射了所述透明基板的光照射至所述对准标记,在同一视场内感测设置于所述透明基板的基板标记和所述对准标记,所述对准标记台与所述透明基板的间隔小于所述微透镜与所述透明基板的间隔。
地址 日本神奈川县横浜市