发明名称 |
发光二极管装置 |
摘要 |
本发明为一种发光二极管装置,包含至少一发光二极管单元,其具有一基板,一位于基板上的电性耦合层,位于电性耦合层上的并接型磊晶结构,及位于电性耦合层与并接型磊晶结构之间的中间层。在另一实施例中,并接型磊晶结构位于导电层上,电性耦合层位于并接型磊晶结构上,且中间层位于并接型磊晶结构与电性耦合层之间。 |
申请公布号 |
CN103390704B |
申请公布日期 |
2016.01.20 |
申请号 |
CN201210140315.7 |
申请日期 |
2012.05.08 |
申请人 |
华夏光股份有限公司 |
发明人 |
卢怡安;许进恭;施雅萱 |
分类号 |
H01L33/06(2010.01)I;H01L33/36(2010.01)I |
主分类号 |
H01L33/06(2010.01)I |
代理机构 |
广州中浚雄杰知识产权代理有限责任公司 44254 |
代理人 |
马静 |
主权项 |
一种发光二极管装置,包含:至少一发光二极管单元,该发光二极管单元包含:一基板;一电性耦合层,位于所述基板上,该电性耦合层材质系为III族氮化物;一并接型磊晶结构,位于所述电性耦合层上;及一中间层,位于所述电性耦合层与所述并接型磊晶结构之间;其中所述并接型磊晶结构包含:一第一p型掺杂层,位于所述中间层上;一第一量子阱层,位于所述第一p型掺杂层上;一n型掺杂层,位于所述第一量子阱层上;一第二量子阱层,位于所述n型掺杂层上;及一第二p型掺杂层,位于所述第二量子阱层上;其中所述中间层使得所述电性耦合层与所述第一p型掺杂层之间的压降趋近于零。 |
地址 |
开曼群岛KY1-1104大开曼岛阿格兰屋邮政信箱309 |