发明名称 光学层叠体
摘要 本发明提供一种光学层叠体,该光学层叠体即便使用包含低透湿性的(甲基)丙烯酸系树脂的(甲基)丙烯酸系树脂薄膜(基材薄膜),也可确保(甲基)丙烯酸系树脂薄膜(基材薄膜)与硬涂层的密合性,并且可防止耐划伤性的下降。本发明的光学层叠体具备:由(甲基)丙烯酸系树脂薄膜形成的基材层(10)及在上述(甲基)丙烯酸系树脂薄膜上涂敷硬涂层形成用组合物而形成的硬涂层(20),其中,硬涂层形成用组合物包含具有9个以上的自由基聚合性不饱和基团的化合物(A),上述化合物(A)的含有比例是:相对于上述硬涂层形成用组合物中的全部固化性化合物为15重量%~100重量%。
申请公布号 CN103492181B 申请公布日期 2016.01.20
申请号 CN201280019682.X 申请日期 2012.04.18
申请人 日东电工株式会社 发明人 柴田周作;高田胜则;武本博之
分类号 B32B27/30(2006.01)I;B32B7/02(2006.01)I;G02B1/10(2015.01)I;G02B5/30(2006.01)I;G02F1/1335(2006.01)I;G09F9/00(2006.01)I 主分类号 B32B27/30(2006.01)I
代理机构 永新专利商标代理有限公司 72002 代理人 陈建全
主权项 一种光学层叠体,其具备:由(甲基)丙烯酸系树脂薄膜形成的基材层及在所述(甲基)丙烯酸系树脂薄膜上涂敷硬涂层形成用组合物而形成的硬涂层,其中,硬涂层形成用组合物包含具有9个以上的自由基聚合性不饱和基团的化合物(A),所述化合物(A)的含有比例是:相对于所述硬涂层形成用组合物中的全部固化性化合物为15重量%~100重量%,在所述基材层与所述硬涂层之间还具备通过所述硬涂层形成用组合物渗透至所述(甲基)丙烯酸系树脂薄膜而形成的渗透层,并且所述渗透层的厚度为1.2μm以上。
地址 日本大阪