发明名称 | 氧化物烧结体以及对其进行加工而得到的片体 | ||
摘要 | 本发明提供一种离子镀用片体、以及用于获得该离子镀用片体的氧化物烧结体,该离子镀用片体可对适于太阳能电池的透明导电膜进行高速成膜,且可以在不引起裂纹、破裂或者喷溅的状态下继续成膜。本发明提供一种氧化物烧结体等,其含有氧化铟作为主要成分,并含有钨作为添加元素,钨的含量以W/(In+W)的原子数比计为0.001~0.15,其特征在于,该氧化物烧结体主要由下述晶粒构成:由没有固溶钨的方铁锰矿型结构的氧化铟相构成的晶粒(A)、以及由固溶有钨的方铁锰矿型结构的氧化铟相构成的晶粒(B),且该氧化物烧结体的密度为3.4~5.5g/cm<sup>3</sup>。 | ||
申请公布号 | CN103347836B | 申请公布日期 | 2016.01.20 |
申请号 | CN201280007485.6 | 申请日期 | 2012.01.19 |
申请人 | 住友金属矿山株式会社 | 发明人 | 中山德行 |
分类号 | C23C14/24(2006.01)I | 主分类号 | C23C14/24(2006.01)I |
代理机构 | 北京三幸商标专利事务所(普通合伙) 11216 | 代理人 | 刘激扬 |
主权项 | 一种氧化物烧结体,其含有氧化铟作为主要成分,并含有钨作为添加元素,钨的含量以W/(In+W)的原子数比计为0.001~0.15,其特征在于,该氧化物烧结体主要由下述晶粒构成:由没有固溶钨的方铁锰矿型结构的氧化铟相构成的晶粒(A)、由固溶有钨的方铁锰矿型结构的氧化铟相构成的晶粒(B)、以及对SEM‑EDS的图像进行解析的情况下相对于全部晶粒的面积比为5%以下的由氧化钨相构成的晶粒(D),但是不含有锡,且该氧化物烧结体的密度为3.4~5.5g/cm<sup>3</sup>。 | ||
地址 | 日本国东京都 |