具有受保护的背板的PVD溅射靶

摘要

本发明的实施例提供用于物理气相沉积(physical vapor deposition；PVD)中的溅射靶及形成此种溅射靶的方法。在一个实施例中，溅射靶包含配置在背板上的靶层，及覆盖和保护所述背板的区域的保护涂层，所述保护涂层通常包含镍材料，背板的所述区域若无所述保护涂层则将于PVD工艺期间暴露于等离子体下。于多个实例中，所述靶层包含镍-铂合金，所述背板包含铜合金(例如，铜-锌)，且所述保护涂层包含金属镍。所述保护涂层消除通常因等离子体腐蚀所述背板的暴露表面内所含的铜合金而引起的高导电性铜污染物的形成。因此，于PVD工艺期间，基板和PVD腔室的内部表面不残留这类铜污染物。

主权项

一种溅射靶，所述溅射靶包含：背板，所述背板具有正面和相反的背面，其中所述正面包含外侧支撑表面，所述外侧支撑表面具有设置在所述外侧支撑表面中的多个紧固件孔，所述外侧支撑表面围绕内侧靶表面，所述背面包含外侧背部表面，所述外侧背部表面围绕在所述背面的中心处的内侧凹部表面，且所述外侧背部表面沿着所述背板的中心轴在所述内侧凹部表面与所述外侧背部表面的平行平面之间具有靶凹部深度；包含至少一种金属的靶层，所述靶层配置在所述背板的所述内侧靶表面上，其中所述内侧凹部表面具有深度和直径，并且所述靶层从所述中心轴向外延伸至比所述内侧凹部表面的直径小的直径，所述内侧凹部表面的深度跨所述内侧凹部表面的直径恒定；以及包含镍或钨的保护涂层，所述保护涂层配置在所述外侧支撑表面的至少一部分上，所述保护涂层的外表面的一部分实质上与所述外侧支撑表面的平面共平面。