一种高透薄膜的制备方法

摘要

本发明公开了一种高透薄膜的制备方法，其特征在于包括以下步骤：A、直流电源溅射Nb平面靶，在透明耐热玻璃基板上磁控溅射Nb₂O₅层；B、交流电源溅射氧化钛陶瓷旋转靶，在Nb₂O₅层上磁控溅射TiO₂层；C、交流电源溅射掺铝氧化锌陶瓷靶旋转靶，在TiO₂层上磁控溅射AZO层；D、直流电源溅射银平面靶，在AZO层上磁控溅射Ag层；E、直流电源溅射NiCr合金平面靶，在Ag层上磁控溅射NiCr层；F、交流电源溅射氧化钛陶瓷旋转靶，在NiCr层上磁控溅射TiO₂层。本发明的目的是为了克服现有技术中的不足之处，提供一种工艺简单，操作方便，生产成本相对较低的高透薄膜的制备方法。

主权项

一种高透薄膜的制备方法，其特征在于包括以下步骤：A、采用氧气作为反应气体，氩气作为保护气体，直流电源溅射Nb平面靶，在透明耐热玻璃基板上磁控溅射Nb2O5层；B、采用氩气作为反应气体，交流电源溅射氧化钛陶瓷旋转靶，在步骤A中Nb2O5层上磁控溅射TiO2层；C、采用氩气作为反应气体，交流电源溅射掺铝氧化锌陶瓷靶旋转靶，在步骤B中的TiO2层上磁控溅射AZO层；D、采用氩气作为反应气体，直流电源溅射银平面靶，在步骤C中的AZO层上磁控溅射Ag层；E、采用氩气作为反应气体，直流电源溅射NiCr合金平面靶，在步骤D中的Ag层上磁控溅射NiCr层；F、采用氩气作为反应气体，交流电源溅射氧化钛陶瓷旋转靶，在步骤E中的NiCr层上磁控溅射TiO2层。