发明名称 用于控制离子能量分布的方法和设备
摘要 公开了用于调节等离子体室内的离子能量的系统、方法和设备。一种示范性系统包括离子能量控制部分,所述离子能量控制部分响应于至少一个指示轰击衬底的表面的离子的能量的预期分布的离子能量设置来提供至少一个离子能量控制信号。将控制器耦合至开关模式电源,所述控制器提供至少两个驱动控制信号。此外,将开关模式电源耦合至所述衬底支撑、离子能量控制部分和控制器。所述开关模式电源包括开关部件,所述开关部件被配置为响应于所述驱动信号和离子能量控制信号向衬底施加功率以实现轰击衬底的表面的离子的能量的预期分布。
申请公布号 CN102217045B 申请公布日期 2016.01.20
申请号 CN201080003206.X 申请日期 2010.04.27
申请人 先进能源工业公司 发明人 R·赫克曼;V·布劳克
分类号 H01L21/3065(2006.01)I;H01L21/205(2006.01)I;C23C16/52(2006.01)I;H05H1/00(2006.01)I 主分类号 H01L21/3065(2006.01)I
代理机构 永新专利商标代理有限公司 72002 代理人 陈松涛;夏青
主权项 一种基于等离子体的处理的系统,包括:被配置为容纳等离子体的等离子体处理室;置于所述等离子体处理室内部并且被设置为支撑衬底的衬底支撑;离子能量控制部分,所述离子能量控制部分包括DC电压源,其中所述DC电压源的输出电压建立相对应的特定离子能量,所述特定离子能量指示在所述衬底的表面处的预期的离子能量的单一集中;耦合至所述衬底支撑和所述离子能量控制部分的开关模式电源,所述开关模式电源包括至少两个开关部件,所述至少两个开关部件用于将所述DC电压源的输出电压转换为特定电压波形,并将所述特定电压波形施加于所述衬底支撑,以在所述衬底的表面处在正电压脉冲之间产生恒定的负电压;耦合至所述开关模式电源的控制器,所述控制器将驱动控制信号提供给所述至少两个开关部件,并对所述驱动控制信号的定时进行控制,以产生所述特定电压波形,从而在所述衬底的表面处实现所述预期的离子能量的单一集中。
地址 美国科罗拉多州