发明名称 一种基于光场选择的合成孔径显微装置
摘要 本发明公开了一种基于光场选择的合成孔径显微方法,包括以下步骤:1)探测光经扩束偏折处理后照射到样品上,利用显微成像系统收集透过样品的透射光;2)参考光经扩束偏折处理后与显微成像系统收集的透射光合束并统一偏振,再通过图像传感器记录两束光的干涉图样;3)改变探测光照射到样品的角度,重复步骤1)和步骤2),得到与多个角度对应的多张干涉图样;4)利用傅里叶变换的方法得到每张干涉图样的相位分布,再通过randon算法重构得到显微图像。本发明还公开了一种基于光场选择的合成孔径显微装置。本发明加入光场选择的方法有效的增加了显微镜的合成孔径,并提高了横向分辨率和纵向分辨率,实现了超分辨的效果。
申请公布号 CN103292690B 申请公布日期 2016.01.20
申请号 CN201310207072.9 申请日期 2013.05.29
申请人 浙江大学 发明人 匡方;修鹏;葛剑虹;刘旭
分类号 G01B9/04(2006.01)I;G02B21/36(2006.01)I 主分类号 G01B9/04(2006.01)I
代理机构 杭州天勤知识产权代理有限公司 33224 代理人 胡红娟
主权项 一种基于光场选择的合成孔径显微装置,其特征在于,包括:沿参考光光路依次布置的第一激光器和扩束镜;沿探测光光路依次布置的第二激光器、光场选择器、样品台和显微成像系统;用于将所述参考光和显微成像系统收集的透射光合束的第一偏振分光棱镜;用于使合束后的参考光和透射光产生干涉的检偏器;用于采集干涉图样的图像采集器;以及用于控制所述图像采集器和光场选择器的计算机。
地址 310027 浙江省杭州市西湖区浙大路38号
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