发明名称 离型膜、其制备方法以及包含离型膜的有机硅复合片材
摘要 本发明公开一种离型膜、其制备方法以及包含离型膜的有机硅复合片材,离型膜,包括底材和附着在底材表面的离型层,所述离型层是由表面活性剂形成的薄层;所述表面活性剂为阴离子表面活性剂、阳离子表面活性剂、非离子表面活性剂和两性表面活性剂中的一种,或几种表面活性剂的复配,用表面活性剂在底材上制备离型层,即得离型膜,将离型膜与硅胶组合物压延复合后固化,得到包含离型膜的有机硅复合片材。本发明的离型膜包括由表面活性剂制备的离型层,其对有机硅材料的离型效果显著,且制备方法简单。
申请公布号 CN105254912A 申请公布日期 2016.01.20
申请号 CN201510717951.5 申请日期 2015.10.28
申请人 深圳市安品有机硅材料有限公司 发明人 张耀湘;李云;覃剑
分类号 C08J7/04(2006.01)I;C09D171/00(2006.01)I;C08L83/07(2006.01)I;C08L83/05(2006.01)I;C08K3/00(2006.01)I;C08K3/22(2006.01)I;C08K3/36(2006.01)I;C08K3/28(2006.01)I;C08K3/38(2006.01)I;C08K3/34(2006.01)I;B32B27/20(2006.01)I;B32B27/28(2006.01)I;B32B27/36(2006.01)I;C08L67/02(2006.01)N 主分类号 C08J7/04(2006.01)I
代理机构 深圳市明日今典知识产权代理事务所(普通合伙) 44343 代理人 罗志强
主权项 一种离型膜,包括底材和附着在底材表面的离型层,所述离型层是由表面活性剂形成的薄层;所述表面活性剂为阴离子表面活性剂、阳离子表面活性剂、非离子表面活性剂和两性表面活性剂中的一种或几种的复配。
地址 518003 广东省深圳市宝安区福永街道福海大道三星工业区二区第4幢第一、二、三层