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发明名称
An Acidic Gold Alloy Plating Solution
摘要
본 발명은 시안화금, 코발트 이온, 헥사메틸렌 테트라민 및 특정 광택제를 함유하는 금 도금 용액을 사용하여 높은 침착 선택성을 가진 금 도금 용액을 제공하는 금 합금 도금 용액 및 그의 도금 방법에 관한 것이다.
申请公布号
KR101582507(B1)
申请公布日期
2016.01.19
申请号
KR20150021979
申请日期
2015.02.13
申请人
롬 앤드 하스 일렉트로닉 머트어리얼즈 엘엘씨
发明人
모리이 유타카;오리하시 마사노리
分类号
C25D3/48
主分类号
C25D3/48
代理机构
代理人
主权项
地址
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