| 摘要 |
본 발명은 은 입자의 제조 방법에 대해, 수십 ㎚∼수백 ㎚의 범위 내에서 입경을 조정하면서, 또한 입경이 고른 은 입자를 제조할 수 있는 방법을 제공한다. 이러한 본 발명은 열분해성을 갖는 은-아민 착체 전구체를 포함하는 반응계를 가열하여 은 입자를 제조하는 방법이며, 은-아민 착체를 제조하는 공정, 반응계에 아미드(카르복실산아미드)를 골격으로서 갖는 유기 화합물을 첨가하는 공정, 반응계를 가열하는 공정으로 이루어지고, 가열 전, 반응계의 수분 함유량은 상기 은 화합물 100중량부에 대해 20∼100중량부인 은 입자의 제조 방법에 관한 것이다. 본 발명에 따르면, 입경을 제어하면서, 균일한 은 입자를 제조할 수 있다. |
