发明名称 撮像装置の製造方法および半導体装置の製造方法
摘要 撮像装置10の製造方法は、複数の受光部31が第1の主面30SAに形成され、それぞれの受光部31の周囲に電極パッド32が形成された撮像チップ基板30Wを切断し複数の撮像チップ30を作製する工程と、撮像チップ30の第1の主面30SAを透明な接着層41を介してガラスウエハ20Wに接着するとともに撮像チップ30が接着されていないガラスウエハ20Wの外周領域にダミーチップ30Dを接着層41を介して接着し接合ウエハ40Wを作製する工程と、撮像チップ30およびダミーチップ30Dの間を封止部材42で充填する工程と、接合ウエハ40Wを加工し厚さを薄くする工程と、貫通配線33を介して電極パッド32と接続された外部接続電極34を第2の主面30SBに形成する工程と、接合ウエハ40Wを切断する工程と、を具備する。
申请公布号 JPWO2013179764(A1) 申请公布日期 2016.01.18
申请号 JP20140518321 申请日期 2013.04.04
申请人 オリンパス株式会社 发明人 藤森 紀幸;五十嵐 考俊;吉田 和洋
分类号 H01L27/14;H01L21/02;H01L23/12 主分类号 H01L27/14
代理机构 代理人
主权项
地址