| 发明名称 |
ETCHING LIQUID, KIT OF SAME, ETCHING METHOD USING SAME, METHOD FOR PRODUCING SEMICONDUCTOR SUBSTRATE PRODUCT, AND METHOD FOR MANUFACTURING SEMICONDUCTOR ELEMENT |
| 摘要 |
질산과, 함불소 화합물과, 질소 원자를 갖는 반복 단위를 복수 갖는 함질소 유기 화합물 A 또는 인 함유 화합물 B를 함유하는 에칭액. |
| 申请公布号 |
KR20160006217(A) |
申请公布日期 |
2016.01.18 |
| 申请号 |
KR20157034965 |
申请日期 |
2014.05.30 |
| 申请人 |
FUJIFILM CORPORATION |
发明人 |
SUGISHIMA YASUO;MIZUTANI ATSUSHI;PARK KEE YOUNG |
| 分类号 |
H01L21/3213;C07F9/02;C08G69/00;C08G73/00;H01L21/02 |
主分类号 |
H01L21/3213 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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