发明名称 マグネトロンスパッタ装置
摘要 【課題】磁性材料からなるターゲットを用いてマグネトロンスパッタを行うにあたり、装置の生産性を高くすることができる技術を提供すること。【解決手段】基板上にて、当該基板の中心軸から前記基板の面に沿った方向にその中心軸が偏移して配置され、磁性材料からなるターゲットである円筒体と、この円筒体を当該円筒体の軸周りに回転させる回転機構と、前記円筒体の空洞部内に設けられたマグネット配列体と、前記円筒体に電圧を印加する電源部と、を備える装置を構成する。そして、前記マグネット配列体の前記円筒体の軸と直交する断面形状は、円筒体の周方向における両端部よりも部が当該円筒体の周面側に突出している。これによって、厚さが比較的大きいターゲットを用いても、ターゲットから漏洩する磁場の強度の低下を抑え、且つエロ−ジョンの局所的な進行を抑えることができる。【選択図】図1
申请公布号 JPWO2013179544(A1) 申请公布日期 2016.01.18
申请号 JP20140518238 申请日期 2013.03.28
申请人 東京エレクトロン株式会社 发明人 北田 亨;中村 貫人;五味 淳;宮下 哲也
分类号 C23C14/35;C23C14/34;H01L21/8246;H01L27/105;H01L43/12 主分类号 C23C14/35
代理机构 代理人
主权项
地址
您可能感兴趣的专利