摘要 |
刷毛4之一个阵列的一发刷。各该刷毛自一基底延伸至一自由端。该等刷毛之一些或全部皆具有相对宽的朝向该刷毛之基底的第一部分,以及相对窄的朝向该刷毛之自由端的第二部分。该等刷毛被安排于补偿的阵列,且阵列之线被分离间隔,使得在一个阵列中刷毛之第一部分之至少一部分延伸至在一邻近列的邻近刷毛之间;和/或当垂直于该等阵列来观察时,于超过其之长度之部分上,在一个阵列中的刷毛之第一部分之宽度系相等或大于一相邻阵列中刷毛之间的间隔,使得在一邻近阵列中该间隔于刷毛之间部分封闭。该等刷毛被铸模及被安排,使得该等刷毛之第一部分适用于在该等刷毛之间容易地穿透及分离头发,当头发通过该等刷毛之间时,该等刷毛之第二部分使压力施加于该头发。 |