发明名称 |
微影设备及方法 |
摘要 |
微影设备,其包含:一支撑结构,其经组态以在支撑在扫描方向上具有一第一广度的一图案化装置时在一单一扫描操作期间移动达一第一扫描距离,且在支撑在该扫描方向上具有一第二广度的一图案化装置时在一单一扫描操作期间移动达一第二扫描距离;及一基板台,其经组态以在该支撑结构支撑在该扫描方向上具有该第一广度的一图案化装置时在一单一扫描操作期间移动达一第三扫描距离,且在该支撑结构支撑在该扫描方向上具有该第二广度的一图案化装置时在一单一扫描操作期间移动达一第四扫描距离。
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申请公布号 |
TW201602737 |
申请公布日期 |
2016.01.16 |
申请号 |
TW104119469 |
申请日期 |
2015.06.16 |
申请人 |
ASML荷兰公司 |
发明人 |
克歇梅克斯 山德;丹 邦伊 威海明司 派特斯;德 兰奇 葛本 法兰克;胡甄丹 克莉丝汀娜 艾利珊卓;凡 吉斯 比卓斯 法新克司;卡敏加 吉而摩 马修斯;库特 简 杰彼;斯库尔曼斯 卡罗斯 裘汉斯 凯萨琳娜 |
分类号 |
G03F7/20(2006.01) |
主分类号 |
G03F7/20(2006.01) |
代理机构 |
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代理人 |
林嘉兴 |
主权项 |
一种微影设备,其包含:一支撑结构,其可操作以支撑包含一经图案化区域之一图案化装置,该经图案化区域能够在一辐射光束之横截面中向该辐射光束赋予一图案以形成一经图案化辐射光束,其中该支撑结构可在一扫描方向上移动;一基板台,其可操作以固持一基板,其中该基板台可在该扫描方向上移动;及一投影系统,其经组态以将该经图案化辐射光束投影至该基板之一曝光区上;其中该支撑结构可操作以支撑在该扫描方向上具有一第一广度之图案化装置且可操作以支撑在该扫描方向上具有一第二广度之图案化装置,该第二广度不同于该第一广度;其中该支撑结构经组态以在支撑在该扫描方向上具有该第一广度的一图案化装置时在一单一扫描操作期间移动达一第一扫描距离,且在支撑在该扫描方向上具有该第二广度的一图案化装置时在一单一扫描操作期间移动达一第二扫描距离,该第一扫描距离不同于该第二扫描距离;且其中该基板台经组态以在该支撑结构支撑在该扫描方向上具有该第一广度的一图案化装置时在一单一扫描操作期间移动达一第三扫描距离,且在该支撑结构支撑在该扫描方向上具有该第二广度的一图案化装置时在一单一扫描操作期间移动达一第四扫描距离,该第三扫描距离不同于该第四扫描距离。
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地址 |
荷兰 |