微影设备及方法

摘要

明提供一种修改一微影设备之方法，该微影设备包含：一照明系统，其用于提供一辐射光束；一支撑结构，其用于支撑用以在该辐射光束之横截面中向该辐射光束赋予一图案之一图案化器件；一第一透镜，其用于以一第一放大率将该辐射光束投影于该图案化器件处；一基板台，其用于固持一基板；及一第一投影系统，其用于以一第二放大率将该经图案化辐射光束投影于该基板之一目标部分处。该第一透镜及该第一投影系统一起提供一第三放大率。该方法包含：依一第一因数缩减该第一放大率以提供用于以一第四放大率投影该辐射光束之一第二透镜；及依该第一因数增加该第二放大率以提供用于以一第五放大率将该经图案化辐射光束投影于该基板之该目标部分处之一第二投影系统。

主权项

一种修改一微影设备之方法，该微影设备包含：一照明系统，其用于提供一辐射光束；一支撑结构，其在该照明系统下游，该支撑结构用于支撑一图案化器件，该图案化器件用来在该辐射光束之横截面中向该辐射光束赋予一图案以提供一经图案化辐射光束；一第一透镜，其用于以一第一放大率将该辐射光束投影于该图案化器件处；一基板台，其在该支撑结构下游，该基板台用于固持一基板；及一第一投影系统，其用于以一第二放大率将该经图案化辐射光束投影于该基板之一目标部分处，该第一透镜及该第一投影系统一起提供一第三放大率，该方法包含：依一第一因数缩减由该透镜提供之该第一放大率以提供用于以一第四放大率投影该辐射光束之一第二透镜；及依该第一因数增加该第二放大率以提供用于以一第五放大率将该经图案化辐射光束投影于该基板之该目标部分处之一第二投影系统。