原子层沉积装置及其方法

摘要

子层沉积于扁平基板表面的装置，包含有一注入头，前述注入头包含有一装设有一前驱支撑部以及前驱排出部的沉积空间。前述前驱支撑部以及前述前驱排出部设置用来从前述前驱支撑部提供一经过前述沉积空间而达到前述排出管的前驱气流。前述沉积空间使用上为前述注入头以及前述基板表面所界定。前述装置包含有一气体轴承，其包含有一轴承气体注射器，用来注射一轴承气体于前述注入头以及前述基板表面之间。而前述装置具有一运输系统提供前述基板以及前述注入头沿着前述基板一平面的相对位移，以形成一运输前述基板的运输平面。前述装置具有一支持部相对设置于前述注入头，前述支持部提供一气体轴承压力排列以平衡前述注入头气体轴承于前述运输平面，以便前述气体轴承压力排列以无须支撑的方式让前述基板维持于前述注入头以及前述支持部之间。

主权项

一种原子层沉积于扁平基板表面的装置，包含有： 一注入头，包含有： 一沉积空间，其装设有一前驱支撑部以及一前驱排出部；前述前驱支撑部以及前述前驱排出部安置用来提供一从前述前驱支撑部经过前述沉积空间达到前述前驱排出部的前驱气体流；前述沉积空间使用中由前述注入头以及前述基板表面所限定； 一气体轴承，其包含有一轴承气体注射器设置用来注射一轴承气体于前述注入头以及前述基板表面之间，前述轴承气体因此形成一气体轴承； 一运输系统，用来提供前述基板以及前述注入头的相对位移，前述相对位移沿着前述基板的一平面而形成一运输平面，前述基板沿着前述运输平面被运输； 一支持部相对于前述注入头设置，前述支持部从关于前述注入头气体轴承之前述基板的一相反侧建构用来提供一气体轴承压力排列， 该气体轴承压力排列提供一压力以平衡前述注入头气体轴承于前述运输平面中，以便前述气体轴承压力排列得以无须被支撑的方式维持前述基板于前述注入头以及前述支持部之间； 其中，前述气体轴承相对于前述基板定义一间隔距离，其与前述气体轴承压力结合，使用上提供前述气体轴承压力排列提供前述气体轴承的稳定性介于103
至1010
牛顿每立方公尺。