发明名称 雷射源中之光电磁感测器之校正技术
摘要 雷射制造的电浆(LPP)极紫外光(EUV)系统中,雷射脉冲会被用来制造EUV光。为决定该等个别雷射脉冲的能量,一光电磁(PEM)检测器会被使用一校正系数来校正于一功率量计。当测量一包含单一波长之脉冲的单元雷射束时,该校正系数是依据该等脉冲之一猝发来被算出。一组合的雷射束具有一第一波长的主脉冲等会与一第二波长的前脉冲等轮流交替。为计算该组合雷射束中之该等主脉冲的能量,该校正系数会针对使用该等主脉冲之一单元雷射束来被算出。为计算该组合雷射束中之该等前脉冲的能量,一新的校正系数会被算出。当所算出的能量值偏差超过一预定的临界值时,该等校正系数会被重计算。
申请公布号 TW201603649 申请公布日期 2016.01.16
申请号 TW104119556 申请日期 2015.06.17
申请人 ASML荷兰公司 发明人 刘嵘;拉法斯 罗伯特J;麦尔斯 大卫W;贝格斯泰德 罗伯特A;蒙坎兹 保罗A
分类号 H05G2/00(2006.01) 主分类号 H05G2/00(2006.01)
代理机构 代理人 林嘉兴
主权项 一种系统,包含:一能量监测器在一雷射制造的电浆(LPP)极紫外光(EUV)系统内,该能量监测器构制成能测量一雷射束其包含以一时间长度分开的前脉冲和主脉冲等,该能量监测器包含:一功率量计构制成能感测历经一界定的时间周期之该等雷射脉冲的串列之一平均功率,及一光电磁(PEM)检测器构制成能提供一电压讯号,表示在该界定的时间周期之一部份期间以该时间长度与该第一主脉冲分开的该第一前脉冲之一暂时廓形;一校正模组构制成能依据一主脉冲校正系数和对应于该第一主脉冲之该电压讯号的一部份之一脉冲积分来决定该第一主脉冲之一功率,并依据该平均功率和该第一主脉冲的功率来决定该第一前脉冲之一功率,及依据该第一前脉冲之该功率和对应于该第一前脉冲之该电压讯号的一部份之一积分来决定一前脉冲校正系数;及一单脉冲能量计算(SPEC)模组构制成能依据该前脉冲校正系数和由该PEM检测器提供之一第二电压讯号对应于该第二前脉冲的一部份之一脉冲积分来决定一第二前脉冲之一能量,并依据该主脉冲校正系数和该第二电压讯号对应于该第二主脉冲的一部份之一脉冲 积分来决定一第二主脉冲之一能量。
地址 荷兰