发明名称 光阻组成物及图案形成方法
摘要 明系关于一种光阻组成物,其包含(A)含有通式(1)所表示的重复单元之树脂成分、与(B)通式(2)所表示的光酸产生剂。(R1 、R2 表示烷基。R4 表示氢原子或甲基。A表示氢原子或三氟甲基。R101 、R102 及R103 表示氢原子或1价烃基。m、n表示0~5之整数、p表示0~4之整数。L表示单键或2价烃基)。本发明之光阻组成物可在曝光、PEB后之有机溶剂显影中得到高溶解对比度,并能以优良的真圆性且尺寸控制良好地形成微细的孔洞图案。可藉此形成微细的图案。
申请公布号 TW201602724 申请公布日期 2016.01.16
申请号 TW104116728 申请日期 2015.05.26
申请人 信越化学工业股份有限公司 发明人 阿达铁平;提箸正义;大桥正树;长谷川幸士;小林知洋;及川健一
分类号 G03F7/004(2006.01);G03F7/038(2006.01);G03F7/32(2006.01);H01L21/027(2006.01) 主分类号 G03F7/004(2006.01)
代理机构 代理人 周良谋;周良吉
主权项 一种光阻组成物,其特征为包含: (A)含有下述通式(1)所表示的重复单元之树脂成分;及 (B)下述通式(2)所表示的光酸产生剂; [化32]式中,R1 、R2 各别独立地表示碳数1~3之烷基;R4 表示氢原子或甲基;A表示氢原子或三氟甲基;R101 、R102 及R103 各别独立地表示氢原子、或也可插入有杂原子之碳数1~20的直链状、分支状或环状之1价烃基;m、n各别表示0~5的整数、p表示0~4的整数;L表示单键或也可经杂原子取代、也可插入有杂原子之碳数1~20的直链状、分支状或环状之2价烃基。
地址 日本