附阻剂层之基底、其制造方法、光罩基底及压印用模基底、以及转印用光罩、压印用模及彼等之制造方法

摘要

明提供一种可兼顾所形成之特定图案(线、间隙、孔等)之微细化与该图案之解像性的附阻剂层之基底、应用该附阻剂层之基底之转印用光罩及压印用模、以及该等之制造方法。

主权项

一种附阻剂层之基底，其特征在于：其系具有基板、及形成于上述基板上且由正型之阻剂材料构成之阻剂层者，并且上述阻剂层之厚度为200nm以下，上述阻剂层之未曝光部于水性显影液中之溶解速度为0.05nm/秒以下，于上述阻剂层上形成有成为使上述水性显影液遍及上述阻剂层之至少曝光部上之起因的显影促进层。