| 发明名称 |
基板处理装置 |
| 摘要 |
明提供一种能够高精度地检测出作为残渣残留在研磨后的基板的被研磨面上的金属膜的基板处理装置。基板处理装置包括：研磨部(3)，对基板的被研磨面进行研磨并去除形成于被研磨面上的金属膜；清洗部(4)，对通过研磨部(3)研磨后的基板进行清洗乾燥；临时放置台(180)，供基板在通过研磨部(3)研磨后临时放置。在临时放置台(180)上，设有对基板的被研磨面上残留的金属膜进行检测的传感器(8、9)。
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| 申请公布号 |
TW201601875 |
申请公布日期 |
2016.01.16 |
| 申请号 |
TW104111568 |
申请日期 |
2015.04.10 |
| 申请人 |
荏原制作所股份有限公司 |
发明人 |
丸山浩二 |
| 分类号 |
B24B37/013(2012.01);B24B49/10(2006.01);B24B49/12(2006.01) |
主分类号 |
B24B37/013(2012.01) |
| 代理机构 |
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代理人 |
陈传岳;郭雨岚;锺文岳 |
| 主权项 |
一种基板处理装置，包括：研磨部，其对基板的被研磨面进行研磨并去除形成于所述被研磨面上的金属膜；清洗部，其对通过所述研磨部研磨后的所述基板进行清洗乾燥；以及临时放置台，其供所述基板在通过所述研磨部研磨后临时放置，该基板处理装置之特征在于：在所述临时放置台上，设有对所述基板的被研磨面上残留的金属膜进行检测的传感器。
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| 地址 |
日本 |
