High concentration water pulses for atomic layer deposition
摘要
<p>산소 층 증착에 의해 산소를 포함하는 박막을 형성하기 위한 방법이 제공된다. 산소를 포함하는 이 같은 박막은 높은 농도 워터 펄스, 반응 공간에서 워터 높은 부분압, 및/또는 반응 공간에서 기판으로 높은 워터 유량을 제공하여 증착될 수 있다. 산소를 포함하는 박막은 가령 트랜지스터, 커패시터, 집적 회로, 그리고 다른 반도체 응용에서 유전체 산화물로서 사용될 수 있다.</p>
