| 摘要 |
본 발명은 플라즈마 젯 표면처리 장치에 관한 것으로 플라즈마 젯을 이용하여 상압에서 플라즈마를 생성시켜 미세 소자 제작 시 필요로 하는 플라스틱류의 표면을 처리하거나 미세 소자의 여러 기판을 표면 처리를 통하여 접합 공정을 응용될 수 있는 장점이 있다.본 발명의 일 양상에 따른 플라즈마 젯 표면처리 장치는 플라즈마 젯 분사기, 전원기체공급부 및 제어기로 구성되어 있으며 플라즈마 젯 분사기에 포함되어 있는 핵심 요소인 플라즈마 젯 분사모듈은 분사노즐, 양극 전극 링, 양극전극보호관, 음극으로 사용되는 음극 기체주입관, 음극 전극 링, 기체주입관, 음극전극보호관 및 모듈케이스로 이루어진다. 플라즈마 젯 분사모듈에서는 실질적으로 이온화된 플라즈마가 젯 형태로 생성되어 분사된다. 분사되는 플라즈마를 이용하여 플라스틱류나 다양한 기판에 표면 처리를 할 수 있는 것이다. |
