| 摘要 |
Die Erfindung betrifft ein Kohlenstofftarget für plasmaaktivierte Elektronenstrahl-Bedampfung mittels einer auf dem Verdampfungsgut brennenden Bogenentladung (Spotless arc-activated Deposition-Target). Die Aufgabe, ein Spotless arc-activated Deposition-Target zur Abscheidung kohlenstoffhaltiger Schichten derart bereitzustellen, dass dieses in einem SAD-Prozess (Spotless arc-activated Deposition) verwendet werden kann, wird dadurch gelöst, dass es als Kohlenstofftarget, welches sp2-hybridisierten Kohlenstoff enthält, ausgebildet ist, wobei das Kohlenstofftarget sp3-hybridisierten Kohlenstoff derart enthält, dass bei einer diffusen Bogenentladung ein Plasma zündbar ist. Die Erfindung betrifft ebenso ein Verfahren zur Herstellung einer kohlenstoffhaltigen Schicht, welches das erfindungsgemäße Spotless arc-activated Deposition-Target nutzt. |
