发明名称 基板处理装置及基板处理方法
摘要 基板处理装置用于对基板的主面施行利用药液的处理。该基板处理装置包括:基板保持单元,其用于保持基板;药液供给单元,其具有用于向上述基板保持单元所保持的基板的主面供给药液的药液喷嘴;加热器,其直径小于基板的直径,并且具有红外线灯,该加热器与上述基板保持单元所保持的基板的主面相向配置,通过从上述红外线灯照射红外线来对供给至基板的主面的药液进行加热;加热器移动单元,其用于使上述加热器沿着上述基板保持单元所保持的基板的主面移动。
申请公布号 CN103295936B 申请公布日期 2016.01.13
申请号 CN201310058542.X 申请日期 2013.02.25
申请人 斯克林集团公司 发明人 根来世;村元僚;林豊秀;桥本光治;永井泰彦
分类号 H01L21/67(2006.01)I 主分类号 H01L21/67(2006.01)I
代理机构 隆天知识产权代理有限公司 72003 代理人 董雅会;郭晓东
主权项 一种基板处理装置,用于对基板的主面施行使用药液的处理,其特征在于,包括:基板保持单元,其将基板保持为水平姿势,旋转单元,其用于使上述基板保持单元所保持的基板围绕规定的铅垂轴线旋转,药液供给单元,其具有药液喷嘴,该药液喷嘴用于向上述基板保持单元所保持的基板的主面供给药液,加热器,其直径小于基板的直径,并且具有红外线灯,该加热器与上述基板保持单元所保持的基板的主面相向配置,通过从上述红外线灯照射红外线,来对供给至基板的主面的药液进行加热,加热器移动单元,其用于使上述加热器沿着上述基板保持单元所保持的基板的主面移动,控制单元;该控制单元执行以下工序:液膜形成工序,该控制单元控制上述药液供给单元来向上述基板保持单元所保持的基板的主面供给来自上述药液喷嘴的药液,并且,该控制单元控制上述旋转单元来使上述基板保持单元所保持的基板以第一转速旋转,由此形成覆盖上述基板的主面的药液的液膜,液膜保持工序,在上述液膜形成工序之后执行,在该液膜保持工序中,该控制单元控制上述旋转单元来使上述基板保持单元所保持的基板以低于第一转速的第二转速旋转,由此将在上述基板的主面上形成的药液的液膜保持在上述基板的主面上,液膜加热工序,与上述液膜保持工序并行执行,在该液膜加热工序中,该控制单元控制上述加热器及上述加热器移动单元,来使上述加热器与上述基板保持单元所保持的基板的主面相向配置,并且,通过上述加热器对保持在上述基板的主面上的药液的液膜进行加热,加热器移动工序,与上述液膜保持工序及上述液膜加热工序并行执行,在该加热器移动工序中,该控制单元使上述加热器沿着上述基板的主面移动。
地址 日本国京都府京都市