发明名称 一种强场负脉冲耿氏二极管及其制备方法
摘要 本发明公开一种强场负脉冲耿氏二极管,包括外延片,外延片包括自下而上依次设置的半绝缘砷化镓衬底、n++砷化镓缓冲层、n-砷化镓有源层、n+砷化镓控制层和n++砷化镓接触层,其中n-砷化镓有源层长5~10微米,掺杂浓度为5×10<sup>15</sup>~8×10<sup>15</sup>cm<sup>-3</sup>,本发明还公开一种强场负脉冲耿氏二极管的制备方法,利用适当的器件结构实现耿氏二极管工作于逆向耿氏偶极畴模式下,能够使现有耿氏二极管的输出功率和效率提高数倍,解决了目前耿氏二极管输出效率低下的问题。
申请公布号 CN103682097B 申请公布日期 2016.01.13
申请号 CN201310627498.X 申请日期 2013.11.27
申请人 西安理工大学 发明人 屈光辉
分类号 H01L47/02(2006.01)I;H01L47/00(2006.01)I 主分类号 H01L47/02(2006.01)I
代理机构 西安弘理专利事务所 61214 代理人 李娜
主权项 一种强场负脉冲耿氏二极管,其特征在于,包括外延片,外延片包括自下而上依次设置的半绝缘砷化镓衬底(8)、n++砷化镓缓冲层(7)、n‑砷化镓有源层(6)、n+砷化镓控制层(5)和n++砷化镓接触层(4),所述n++砷化镓缓冲层(7)上表面设置有阳极欧姆接触层(9),阳极欧姆接触层(9)上表面设置有阳极引线(10),所述n++砷化镓接触层(4)上表面设置有阴极欧姆接触层(2),阴极欧姆接触层(2)上表面设置有阴极引线(1),所述外延片外层除半绝缘砷化镓衬底(8)的其余部分设置有Si<sub>3</sub>N<sub>4</sub>钝化层(3)。
地址 710048 陕西省西安市金花南路5号