发明名称 | 用于对准两个衬底的设备 | ||
摘要 | 本公开的发明名称为“用于对准两个衬底的设备”。用于使可以接纳在第一平台上的第一衬底的第一接触面与可以接纳在第二平台上的第二衬底的第二接触面对准的设备和方法,具有以下特征:可以通过第一检测装置在与第一衬底的移动无关的第一X-Y坐标系中的第一平面中检测沿着第一接触面布置的第一对准键的第一X-Y位置,可以通过第二检测装置在与第二衬底的移动无关的第二X-Y坐标系中的与第一X-Y平面平行的第二X-Y平面中检测沿着第二接触面布置的与第一对准键对应的第二对准键的第二X-Y位置,可以基于第一X-Y位置在第一对准位置对准第一接触面并且可以基于第二X-Y位置在第二对准位置对准第二接触面。 | ||
申请公布号 | CN105244305A | 申请公布日期 | 2016.01.13 |
申请号 | CN201510240942.1 | 申请日期 | 2010.08.26 |
申请人 | EV 集团 E·索尔纳有限责任公司 | 发明人 | D.菲古拉 |
分类号 | H01L21/68(2006.01)I | 主分类号 | H01L21/68(2006.01)I |
代理机构 | 中国专利代理(香港)有限公司 72001 | 代理人 | 姜冰;刘春元 |
主权项 | 用于使能接纳在第一平台(10)上的第一衬底(1)的第一接触面(1k)与能接纳在第二平台(20)上的第二衬底(2)的第二接触面(2k)对准的设备,具有以下特征:‑ 能通过第一检测装置(7,7’)在与第一衬底(1)的移动无关的第一X‑Y坐标系中的第一X‑Y平面(5)中检测沿着第一接触面(1k)布置的第一对准键(3.1至3.n)的第一X‑Y位置,‑ 能通过第二检测装置(8,8’)在与第二衬底(2)的移动无关的第二X‑Y坐标系中的与第一X‑Y平面(5)平行的第二X‑Y平面(6)中检测沿着第二接触面(2k)布置的与第一对准键(3.1至3.n)对应的第二对准键(4.1至4.n)的第二X‑Y位置,‑ 能基于第一X‑Y位置在第一对准位置对准第一接触面(1k)并且能基于第二X‑Y位置在第二对准位置对准第二接触面(2k),‑ 所述设备通过测量对准结果并且与所计算的或标称的结果比较来对下一衬底组对的对准进行校准或优化从而是适应性的或自学习的。 | ||
地址 | 奥地利圣弗洛里安 |