| 发明名称 | 柔性显示基板及其制造方法 | ||
| 摘要 | 本发明提供一种柔性显示基板及其制造方法。本发明的柔性显示基板的制造方法，通过图案化柔性基底内的第一无机阻隔层，在第一无机阻隔层上形成数个间隔排列的无机阻隔单元，使得分别位于该无机阻隔层上下的有机层通过无机阻隔单元之间的间隙直接接触，增强了柔性基底内上下膜层之间的黏合强度，避免剥离制程中将柔性基底内膜层误剥和膜面损伤的问题，且方法简单、制程效率高；本发明的柔性显示基板，柔性基底为具有四层膜层的叠层结构，能实现有效阻隔水氧侵蚀的功能，且柔性基底内无机阻隔层具有数个间隔排列的无机阻隔单元，位于该无机阻隔层上下的两层有机层通过无机阻隔单元之间的间隙直接接触，柔性基底内上下膜层之间的黏合强度高，柔性基底的可靠性高。 | ||
| 申请公布号 | CN105244366A | 申请公布日期 | 2016.01.13 |
| 申请号 | CN201510818540.5 | 申请日期 | 2015.11.23 |
| 申请人 | 武汉华星光电技术有限公司 | 发明人 | 刘哲 |
| 分类号 | H01L27/32(2006.01)I;H01L21/77(2006.01)I;G09F9/33(2006.01)I | 主分类号 | H01L27/32(2006.01)I |
| 代理机构 | 深圳市德力知识产权代理事务所 44265 | 代理人 | 林才桂 |
| 主权项 | 一种柔性显示基板的制造方法，其特征在于，包括如下步骤：步骤1、提供承载基板(10)，在所述承载基板(10)上形成第一有机层(21)；步骤2、在所述第一有机层(21)上形成图案化的第一无机阻隔层(22)，所述第一无机阻隔层(22)包括数个间隔排列的无机阻隔单元(221)；步骤3、在所述第一有机层(21)、及第一无机阻隔层(22)上形成第二有机层(23)，所述第二有机层(23)通过所述数个无机阻隔单元(221)之间的间隙与所述第一有机层(21)相接触；步骤4、在所述第二有机层(23)上形成第二无机阻隔层(24)，得到包括第一有机层(21)、第一无机阻隔层(22)、第二有机层(23)、及第二无机阻隔层(24)的柔性基底(20)；步骤5、在所述柔性基底(20)上形成显示器件(40)；步骤6、将柔性基底(20)从所述承载基板(10)上剥离下来。 | ||
| 地址 | 430070 湖北省武汉市东湖开发区高新大道666号生物城C5栋 | ||