超导带材用双面LaMnO₃缓冲层的制备方法

摘要

超导带材用双面LaMnO₃缓冲层的制备方法，属于超导材料技术领域。包括以下步骤：（1）将柔性基带安装在两个转盘之间；（2）将长400毫米，宽40毫米，厚度5毫米的锰镧合金靶分别安置在对靶上，基带正反面分别与对靶上的锰镧合金靶相对；（3）将生长室抽背底真空至1×10^-3Pa以下，对基带加热，使温度保持在750℃左右，充入氩气至0.5Pa并维持，再用U型进气管充入1.2×10^-3到2.5×10^-3Pa氧气；（4）开启中频电源，在靶材附近形成辉光区域；（5）步进电机带动基带匀速通过辉光区域沉积薄膜；（6）关闭溅射。本发明采用中频溅射和超长对靶结构，提高了薄膜的沉积速率，有利于长带材的快速、连续制备。

主权项

一种超导带材用双面LaMnO₃缓冲层的制备方法，包括以下步骤：(1)将柔性基带(2)安装在第一转盘(1)和第二转盘(8)之间；(2)将长为400毫米，宽为40毫米，厚度为5毫米的锰镧合金靶分别安置在对靶(4)上，其中锰镧合金靶中锰镧原子比为1:1，两个转盘之间的基带正反面分别与对靶(4)上的锰镧合金靶相对；(3)将生长室(9)抽背底真空至1×10^‑3Pa以下，对基带(2)进行加热，使温度始终保持在750℃，向生长室(9)内充入氩气至0.5Pa并维持，再利用U型进气管充入1.2×10^‑3到2.5×10^‑3Pa的氧气作为反应气体；(4)采用中频作为溅射电源，开启中频电源(12)，在靶材附近形成等离子轰击金属锰镧合金靶材形成辉光区域；(5)开启步进电机，使基带以25‑50米/小时的速度匀速通过辉光(5)区域沉积LaMnO₃薄膜；(6)关闭中频电源，停止对基片加热，自然降温即可得到LaMnO₃薄膜。