一种超宽带减反射膜及其制备方法

摘要

本发明涉及一种超宽带减反射膜，包括基体层，在基体层表面设有由MgF₂膜层和TiO2膜层交替组成的多层膜结构，且靠近基体层表面的第一层及靠近空气界面的最外层均为MgF₂膜层，所述多层膜结构的厚度为340-370nm。本发明实现了对400～800nm超宽波段可见光的高透射率，残余反射率低于0.2％，镀膜层数较少，简化了制造工艺，降低了制造成本。

主权项

一种超宽带减反射膜的制备方法，其特征在于，包括基体层，在所述基体层表面设有由MgF₂膜层和TiO₂膜层交替组成的多层膜结构，且靠近所述基体层表面的第一层及靠近空气界面的最外层均为MgF₂膜层，所述多层膜结构的厚度为340‑370nm，具体步骤包括：（1）清洗基体层，将清洗后的基体层放置真空室内；（2）抽真空至1.0×10^‑3‑1.5×10^‑3Pa，升温至180‑230℃，充氧至2.5×10^‑2‑3.3×10^‑2Pa；（3）待真空室压强稳定后开始镀膜：镀制第一层MgF₂膜层，镀膜时间及控制速率根据所需厚度控制；（4）根据不同的膜料，交替镀制多层MgF₂膜层和TiO₂膜层；（5）镀膜完毕后，在高真空度下降温至25‑50℃，放气后取出，即得，所述高真空度是指1.0×10^‑3‑1.5×10^‑3Pa。