发明名称 |
包含有机镍化合物的化学沉积用原料及使用该化学沉积用原料的化学沉积法 |
摘要 |
本发明提供一种化学沉积用原料,其熔点低,具有在气化阶段中不会热分解的热稳定性,且在成膜阶段中在低温下易于分解,并且能够稳定地形成杂质少的镍薄膜。本发明涉及包含有机镍化合物的化学沉积用原料,该有机镍化合物中环戊二烯基或其衍生物、以及在环烷基的碳骨架中具有一个烯丙基的环烯基或其衍生物与镍配位。该原料熔点低且具有适度的热稳定性,并且可在低温下成膜。此外,因为蒸气压高,因此适用作具有三维结构的立体型电极用材料。 |
申请公布号 |
CN105247098A |
申请公布日期 |
2016.01.13 |
申请号 |
CN201380076725.2 |
申请日期 |
2013.12.27 |
申请人 |
田中贵金属工业株式会社 |
发明人 |
铃木和治;斋藤昌幸;原田了辅;锅谷俊一;宫崎智史 |
分类号 |
C23C16/18(2006.01)I;C07F15/04(2006.01)I |
主分类号 |
C23C16/18(2006.01)I |
代理机构 |
北京天昊联合知识产权代理有限公司 11112 |
代理人 |
张苏娜;常海涛 |
主权项 |
一种化学沉积用原料,其用于通过化学沉积法来制造镍薄膜或镍化合物薄膜,其中,所述化学沉积用原料包含由下式表示的有机镍化合物,其中,该有机镍化合物中环戊二烯基(Cp)或其衍生物、以及在环烷基的碳骨架中具有一个烯丙基的环烯基或其衍生物(X)与镍配位:<img file="FDA0000851656440000011.GIF" wi="445" he="622" />式中,X为在环烷基的碳骨架中具有一个烯丙基的环烯基,R<sub>1</sub>至R<sub>5</sub>为C<sub>n</sub>H<sub>2n+1</sub>,n=0至6,且n为整数。 |
地址 |
日本东京 |