| 发明名称 | 光阻涂布装置以及光刻设备 | ||
| 摘要 | 本发明公开了一种光阻涂布装置，其包括涂布单元、干燥单元以及清洗单元，其中，所述涂布单元包括喷涂机构，所述喷涂机构用于将光阻材料喷涂在玻璃基板上；所述干燥单元包括：干燥腔室，用于将玻璃基板上的光阻材料中的溶剂蒸发汽化；真空泵，与所述干燥腔室连接，用于将汽化后的溶剂排出；冷凝器，与所述真空泵连接，用于将气态的溶剂冷凝液化；回收容器，与所述冷凝器连接，用于储存液化后的溶剂；所述清洗单元连接于所述回收容器和所述涂布单元之间，从所述回收容器获取溶剂，将溶剂用于清洗所述喷涂机构。本发明还公开了包含如上所述光阻涂布装置的光刻设备。 | ||
| 申请公布号 | CN105242494A | 申请公布日期 | 2016.01.13 |
| 申请号 | CN201510733443.6 | 申请日期 | 2015.11.02 |
| 申请人 | 武汉华星光电技术有限公司 | 发明人 | 欧阳志华 |
| 分类号 | G03F7/16(2006.01)I;G03F7/20(2006.01)I | 主分类号 | G03F7/16(2006.01)I |
| 代理机构 | 深圳市铭粤知识产权代理有限公司 44304 | 代理人 | 孙伟峰;黄进 |
| 主权项 | 一种光阻涂布装置，其特征在于，包括涂布单元(1)、干燥单元(2)以及清洗单元(3)，其中，所述涂布单元(1)包括喷涂机构(11)，所述喷涂机构(11)用于将光阻材料喷涂在玻璃基板(4)上；所述干燥单元(2)包括：干燥腔室(21)，用于将玻璃基板(4)上的光阻材料中的溶剂蒸发汽化；真空泵(22)，与所述干燥腔室(21)连接，用于将汽化后的溶剂排出；冷凝器(23)，与所述真空泵(22)连接，用于将气态的溶剂冷凝液化；回收容器(24)，与所述冷凝器(23)连接，用于储存液化后的溶剂；所述清洗单元(3)连接于所述回收容器(24)和所述涂布单元(1)之间，从所述回收容器(24)获取溶剂，将溶剂用于清洗所述喷涂机构(11)。 | ||
| 地址 | 430070 湖北省武汉市东湖开发区高新大道666号生物城C5栋 | ||