METHOD FOR COATING A SUBSTRATE

摘要

Die Erfindung betrifft ein Verfahren zur Beschichtung eines Substrats, wobei eine mechanische und/oder chemische Vorbehandlung des Substrats zur Aufrauung seiner Oberfläche in einem Bereich von 10 µm bis 100 µm durchgeführt wird, wobei anschließend mittels plasmachemischer anodischer Oxidation eine absorbierende schwarze Schicht mit einer Rauheit in einem Bereich von 1 µm bis 10 µm abgeschieden wird, wobei danach eine transparente und/oder dielektrische Schicht mit einer Rauheit im Bereich weniger Nanometer bis zu einigen 10 nm mittels chemischer Gasphasenabscheidung auf dem Substrat abgeschieden wird.