发明名称 MOVING DEVICE AND EXPOSURE DEVICE
摘要 <p>노광 동작 중에 웨이퍼 스테이지(WST)가 베이스(30) 위에서 가속 및 감속을 행하는 것에 기인하여, 베이스(30) 등을 포함하는 웨이퍼 구동계에 작용하는 토크를, 카운터 매스 장치(35)의 카운터 매스(35b)를 미리 결정된 가속도로 선형 가이드(35a)를 따라 Z축 방향으로 구동시킴으로써 웨이퍼 구동계에 작용하는 토크에 의해 상쇄한다. 이에 따라, 웨이퍼 구동계에 작용는 토크를 캔슬할 수 있어, 노광 장치(10)에서는 정밀도 좋게 웨이퍼(W)에 대한 노광을 행하는 것이 가능해진다.</p>
申请公布号 KR101584827(B1) 申请公布日期 2016.01.13
申请号 KR20107022474 申请日期 2009.02.27
申请人 가부시키가이샤 니콘 发明人 시바자키 유이치
分类号 G03F7/20;H01L21/027 主分类号 G03F7/20
代理机构 代理人
主权项
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