一种基于氮化镓基材料的自停止刻蚀方法

摘要

本发明提供一种基于氮化镓基材料的自停止刻蚀方法，其步骤包括：在氮化镓基材料表面淀积保护层；在所述保护层上涂敷光刻胶，并光刻待做刻蚀区域图形；去除待做刻蚀区域的保护层；去除剩余光刻胶；对氮化镓基材料在高温条件下进行氧化处理；将氧化处理后的氮化镓材料置于腐蚀性溶液中进行腐蚀；将非刻蚀区域的保护层置于腐蚀性溶液中去除。本发明方法基于湿法腐蚀工艺技术，可实现自停止特性，刻蚀区域平整度高、台阶边缘光滑，具有很高的可操作性和可重复性，更利于工业化生产。

主权项

一种基于氮化镓基材料的自停止刻蚀方法，其步骤包括：1)在氮化镓基材料表面淀积保护层：2)在所述保护层上涂敷光刻胶，并光刻待做刻蚀区域图形；3)去除待做刻蚀区域的保护层；4)去除剩余光刻胶；5)对氮化镓基材料在高温条件下进行氧化处理，使氮化镓基材料中GaN层之上的材料层被氧化而不影响GaN层；6)将氧化处理后的氮化镓基材料置于腐蚀性溶液中进行腐蚀；所述腐蚀性溶液为碱性溶液，能够腐蚀步骤5)形成的氧化物而不影响GaN层；7)将非刻蚀区域的保护层置于腐蚀性溶液中去除。