光刻曝光装置

摘要

本发明公开了一种光刻曝光装置，包括：照明单元，用于为光刻曝光装置提供照明光；图案化装置，为所述光刻曝光装置提供光刻图形；分光装置，位于投影曝光光路中，用于将入射的照明光分为多束，并出射到不同的视场中；投影物镜，用于将掩模图形成像于曝光基底上。本发明的光刻曝光装置通过增设分光装置，将照射光分为相同的两束，可以在不增大掩模尺寸的前提下曝出大视场，降低掩模制造成本，承载曝光基底的运动台运动间距增大，节省了部分加速和减速时间，曝光一片曝光基底所用的总运行时间，或同时曝光多片曝光基底所用的总运行时间减少，进而提高了曝光产率。

主权项

一种光刻曝光装置，沿光传播方向依序包括：照明单元，用于为光刻曝光装置提供照明光；图案化装置，为所述光刻曝光装置提供光刻图形；分光装置，用于将透过所述图案化装置入射的照明光分为多束光；投影物镜，用于将所述多束光投射到多个曝光视场。