发明名称 一种化学镀Ni-P纳米叠层膜及其制备方法
摘要 本发明涉及叠层膜的制备技术,具体为一种具有优良耐磨、耐腐蚀性能并且可抑制裂纹产生和扩展的化学镀Ni-P纳米叠层镀膜及其制备方法。本发明采用化学镀工艺并间歇式周期性导入超声波的技术,制备Ni-P纳米叠层镀膜,其制备方法:经过除油、净化处理的金属基底材料,进行化学镀Ni-P纳米叠层镀膜,当Ni-P纳米叠层镀膜达到所需要的厚度时,取出清洗干净并进行干燥后,即可得到制好的化学镀Ni-P纳米叠层镀膜,其单层厚度在50-500纳米,总厚度在4-50微米范围内根据实际需求可以进行调整。
申请公布号 CN103388137B 申请公布日期 2016.01.13
申请号 CN201310275419.3 申请日期 2013.07.02
申请人 中国科学院金属研究所 发明人 于志明;胡家秀;赵健;牛云松
分类号 C23C18/36(2006.01)I 主分类号 C23C18/36(2006.01)I
代理机构 沈阳优普达知识产权代理事务所(特殊普通合伙) 21234 代理人 张志伟
主权项 一种化学镀Ni‑P纳米叠层膜,其特征在于:纳米叠层膜是在化学镀工艺过程中通过间歇式周期性引入超声波信号于化学镀溶液中,化学镀溶液的成分如下:硫酸镍20‑30g/L;次磷酸钠20‑24g/L;乳酸25‑34g/L;乙酸钠14‑16g/L;蒸馏水余量;在金属基底材料上沉积Ni‑P纳米叠层膜,获得的Ni‑P纳米叠层膜呈层状重复堆积结构,纳米叠层膜的单层厚度在50‑500纳米范围内,总厚度在4‑50微米范围内根据实际需求进行调整;在化学镀过程中间歇式周期性导入超声波信号是指:首先,在超声波的电流为100‑200mA、超声波频率为16.5‑55.5kHz下镀膜25‑295秒;然后,将超声波发生器的电流在5秒内由100‑200mA逐渐降低到0;接着,在不加超声波的状态下镀膜25‑295秒;再将超声波发生器的电流在5秒内由0逐渐升高到100‑200mA;不断重复上述操作,沉积时间为40‑500分钟,得到需要的化学镀Ni‑P纳米叠层膜;化学镀Ni‑P纳米叠层膜为非晶态镀膜,消除常规化学镀Ni‑P膜中的柱状晶垂直外延生长缺陷并抑制裂纹的产生与扩展。
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