发明名称 化合物半导体晶片、光电转换元件、以及III-V族化合物半导体单晶的制造方法
摘要 对于将含有Zn作为杂质的III-V族化合物半导体单晶作为基板的光电转换元件,可以不使转换效率降低,而将基板大型化。在耐热性的容器中填充原料和密封剂,将原料和密封剂加热,由此将原料熔解制成熔融液,同时使密封剂熔解,用密封剂将上述熔融液从上方覆盖,控制容器内的温度,以使相对于密封剂下部,密封剂上部的温度在不成为密封剂下部的温度以上的范围升高,在熔融液中浸渍晶种,将晶种相对于熔融液向上方提拉,由此使单晶由晶种生长。由此,虽然Zn的平均浓度是5×10<sup>17</sup>cm<sup>-3</sup>以上且3×10<sup>18</sup>cm<sup>-3</sup>以下的不会表现结晶硬化效果的低浓度,但可以得到直径2英寸以上的大型的、位错密度低、为5000cm<sup>-2</sup>的化合物半导体晶片。
申请公布号 CN105247117A 申请公布日期 2016.01.13
申请号 CN201480030086.0 申请日期 2014.03.11
申请人 吉坤日矿日石金属株式会社 发明人 野田朗;太田优;平野立一
分类号 C30B29/42(2006.01)I;C30B15/22(2006.01)I;C30B27/02(2006.01)I;H01L31/0735(2006.01)I 主分类号 C30B29/42(2006.01)I
代理机构 中国专利代理(香港)有限公司 72001 代理人 陈巍;刘力
主权项 化合物半导体晶片,其特征在于,其由含有锌作为杂质的III‑V族化合物半导体单晶组成,主面形成为直径2英寸以上的圆形,单晶中的锌的平均浓度为5×10<sup>17</sup>cm<sup>‑3</sup>以上且3×10<sup>18</sup>cm<sup>‑3</sup>以下,平均位错密度为5000cm<sup>‑2</sup>以下。
地址 日本东京都