发明名称 COMPOSITION OF PHOTO SENSITIVE RESIN INCLUDING POLYIMIDE PRECURSOR
摘要 <p>감광성 수지 조성물은 방향족 디안하이드로라이드로부터 유도된 2종류 이상의 잔기와 유기 디아민으로부터 유도된 2종류 이상의 잔기로 이루어지고, 상기 방향족 디안하이드로라이드로부터 유도된 2종류의 잔기 중 적어도 하나에 실란계 에폭시 화합물이 치환되며, 중량평균분자량(Mw)이 2,000 내지 200,000인 폴리이미드 전구체를 함유한다.</p>
申请公布号 KR101583876(B1) 申请公布日期 2016.01.12
申请号 KR20130136210 申请日期 2013.11.11
申请人 주식회사 이그잭스 发明人 홍성재;황준식
分类号 G03F7/037;G03F7/11;H01L51/50 主分类号 G03F7/037
代理机构 代理人
主权项
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