发明名称 |
スラリー、研磨液セット、研磨液、基体の研磨方法及び基体 |
摘要 |
砥粒と添加剤と水とを含有する研磨液であって、砥粒が、4価金属元素の水酸化物を含み、且つ、該砥粒の含有量を1.0質量%に調整した水分散液において波長400nmの光に対して吸光度1.00以上1.50未満を与えるものである、研磨液。 |
申请公布号 |
JPWO2013175854(A1) |
申请公布日期 |
2016.01.12 |
申请号 |
JP20140516704 |
申请日期 |
2013.03.26 |
申请人 |
日立化成株式会社 |
发明人 |
岩野 友洋;南 久貴;阿久津 利明;藤崎 耕司 |
分类号 |
C09K3/14;B24B37/00;H01L21/304 |
主分类号 |
C09K3/14 |
代理机构 |
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代理人 |
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主权项 |
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地址 |
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